イオンマイグレーション試験法研究会
 

公開研究会

   半導体の配線の耐腐食性評価のために導入されてきたHAST(Highly Accelerated Temperature and  Humidity Stress Test)について,前・加速寿命試験法検討研究会にて,研究した成果を昨年12月に公開研究会で発表致しました。しかし,会場の都合でご参加出来なかった方が多く,大変ご迷惑をお掛けしたことから,この度,再度公開研究会を開催する運びとなりました。
   今回の報告の内容は,昨年の成果報告を中心にその後継続評価している状況も含め,また,広く一般的に使われているUL規格について,「ULのグローバル化と最近の活動状況」や,IPC,IECの国際標準規格について,現状と今後の動向などの観点から特別講師をお招きしてご講演頂きます。特に電子部品を初めとして,国内規格の参考資料にもなっており,大変興味があるところです。
   多数の方々のご参加をお願いします。

「HASTによる加速劣化試験と国際標準の動向」

★期日 : 12月9日(火)13:30~17:00
★会場 : 国立オリンピック記念青少年総合センター
101号(センター棟1F)
http://www.nyc.go.jp/users/d7.html
[注意]会場が学会会議室からオリンピック青少年センターに変わりました。
★プログラム(予定)
13:30~14:50
(1) 開会の挨拶(5分)
      津久井 勤(東海大学)
(2) ULのグローバル化と最近の活動状況(60分)
      青木 正光(ユーエル エーペックス)
(3) 質疑(15分)
14:50~15:10 休憩
15:10~17:00
(4) HASTの現状調査(20分)
      前野 善信(富士通)
(5) HASTの成果発表(20分)
      中小路 靖(京セラSLCテクノロジー)
(6) HAST評価のノウハウについて(30分)
      中村 和裕(新光電気)
(7) 総合討論
★参加費(資料代・消費税込み)
会員(賛助会員含む)=3000円
非会員=5000円
参加費は,当日,会場受付で現金にて頂きます。
(請求書の発行はいたしません)
★参加申込
(1)氏名,(2)社名・所属部署,(3)住所,(4)TEL・FAX,(5)会員・非会員の区別,を記入の上,tsukui@keyaki.cc.u-tokai.ac.jp まで,Eメールでお申し込みください。
*本研究会に関する問い合わせは,下記まで。 
k-nakamura@mail.shinko.co.jp または, tsukui@keyaki.cc.u-tokai.ac.jp

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