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JIEP錫ウィスカ研究会では下記要領で公開研究会を開催いたします。
ウィスカ発生形態にはめっきから内部応力によって発生する内部応力型とコネクタなどの外部応力によって発生する外部応力型があります。
また、はんだから腐食の形成によって発生するウィスカがあります。これらウィスカ発生機構解析のための応力測定技術と観察技術ならびに抑制技術などについての最先端技術の講演を行います。奮ってご参加下さい。 |
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開催日時： |
平成21年12月2日（水）13:00～17:00 |
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会 場： |
回路会館 地下1階会議室
〒167-0042 東京都杉並区西荻北13-12-2 TEL：03-5310-2010
地図：http://www.e-jisso.jp/intro/intro07.html |
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テーマ： |
「ウィスカ解析技術とその発生機構」 |
| プログラム： |
| 13:00～ |
受付開始 |
| 13:30～14:10 |
「XRDによるめっき膜応力の測定技術開発研究（ウィスカ機構解明のための最先端評価技術の紹介）」
加藤 隆彦氏（日立製作所） |
| 14:10～14:50 |
「Snウィスカ形成に及ぼすめっき構造の影響」
金 槿銖氏（大阪大学） |
| 14:50～15:30 |
「Snめっき表面の接触痕跡における特異性の成因と接触抵抗特性への影響」
玉井 輝雄氏（三重大学） |
| 15:30～15:40 |
休 憩 |
| 15:40～16:20 |
「種々のめっきを施した鉛フリー半導体パッケージのはんだ付け実装におけるウィスカ評価」
鈴木 聡氏（エスペック） |
| 16:20～17:00 |
「すずウィスカの観察技術」
井原 惇行氏（楠本化成） |
| 17:15～18:30 |
技術交流会 |
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| 定 員： |
100名(先着申込順) |
公開研究会
参加費： |
（テキスト代、消費税込み）
会員:5000円 非会員:8000円
シニア会員（65歳以上の会員）＆学生：1000円 |
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技術交流会
参加費： |
無料 |
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参加費は当日、会場受付にて徴収します。釣銭のないようお願いします。 |
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申込先： |
JIEP錫ウィスカ研究会 |
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申し込み票ご送付先
＊宛先 JIEP錫ウィスカ研究会 公開研究会受付
E-mail：whisker1202@gmail.com
FAX：0495-21-7830
＊会員区分(該当内容に○印を付けて下さい)
( ) 正会員（会員番号 ） ( ）会員[65才以上]
( ) 賛助会員
( ) 非会員
( ) 学生
＊氏 名
＊氏名ふりがな
＊社 名
＊所属部署
＊連 絡 先
郵便番号
住 所
TEL.
FAX.
E-mail
＊技術交流会(該当内容に○印を付けて下さい)
（ ）参加 （ ）不参加
会員区分にご記入がない場合は、非会員として受付処理をさせていただきますので、会員の方は、必ずご記入ください。
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