1. |
コンサルタントが材料メーカーになる
小松 信夫 氏/KMT技研 |
2. |
GHzを超えるディジタル信号を対象としたシグナル・インテグリティ改善技術
島田 弘基 氏/筑波大学 |
3. |
光焼成による銅配線の作製
荒木 徹平 氏/大阪大学大学院 |
4. |
無電解めっきを用いた高アスペクト比Cu-TSV形成技術
井上 史大 氏/関西大学 |
5. |
成形回路部品(MID)用エッチングレス無電解銅めっきプロセスの開発
堀内 伸 氏/産業技術総合研究所 |
6. |
圧電体を用いた振動発電デバイスの構造設計と素形材に関する研究
小峰えりか 氏/東京大学大学院 |
7. |
Wafer Level Over Mold ~そりへの挑戦~
高橋 好美 氏/日本テキサスインスツルメンツ |
8. |
ダイレクトチップアタッチ実装の可能性を検証するウエハレベルパッケージング技術
冨田 至洋 氏/インテル |
9. |
印刷有機TFTデバイスの特長と医療分野への革新的な活用
関谷 毅 氏/東京大学 |
10. |
モジュール製品のそりシミュレーション技術の開発
橋本 健 氏/村田製作所 |
11. |
Wafer-Level アンダーフィルに対する構造解析および密着性評価技術
岡本 圭司 氏/日本アイ・ビー・エム |
12. |
ノートPCの高密度実装と堅牢性向上を進めるBGA補強技術
林山 晋也 氏/東芝 |
13. |
携帯機器の小型薄型実装技術
小勝 俊亘 氏/日本電気 |
14. |
高熱伝導性を有する銀ナノ粒子ペーストの開発
佐々木幸司 氏/ナミックス |
15. |
高密度実装を可能にする極薄ダイボンディングフィルムの開発
岩倉 哲郎 氏/日立化成工業 |
16. |
選択的トレンチフィリングCuめっきによる微細配線技術
中野 広 氏/日立製作所 |
17. |
次世代回路設計技術に向けた高速SI/PI/EMIシミュレータの開発
井上 雄太 氏/静岡大学 |
18. |
電流負荷がSn-Cu-In系はんだ付部の組織の及ぼす影響
金子 恵也 氏/東海大学大学院 |
19. |
LSIデバイス上の微細円錐Auバンプ作製技術とデバイス実装への応用
青柳 昌宏 氏/産業技術総合研究所 |
20. |
3次元アジャイル積層システム向けチップ/PCB貫通通信技術
高宮 真 氏/東京大学 |
21. |
擬似SoC技術を用いた中空封止On-Chip配線の高周波特性評価
佐々木忠寛 氏/東芝 |
22. |
高速生産を可能とした低コスト・高品質はんだ材料の開発
吉川 俊策 氏/千住金属工業 |
23. |
多機能高集積デバイスのための高密度微細接合技術
末岡 邦昭/超先端電子技術開発機構 |
24. |
MRAM用垂直方向静磁場のシールド構造開発 -コの字型の発見-
渡邊 敬仁 氏/ルネサスエレクトロニクス |
25. |
プリンテッドエレクトロニクス用印刷材料
黒田 杏子 氏/日立化成工業 |
26. |
インクジェット法による高精細電極パターニングとそれを用いた全印刷有機TFTバックプレ-ン
小野寺 敦 氏/リコ- |
27. |
光トランシーバーにおける熱解析シミュレーションと電磁界シミュレーションを活用した解析手法の提案
石井 邦幸 氏/住友電気工業 |
28. |
高速流めっき法による短時間Cu貫通電極形成および電極の微細組織
門田 裕行 氏/日立協和エンジニアリング |
29. |
表面実装におけるボイド発生メカニズムと抑制技術について
高橋 政典 氏/クオルテック |
30. |
フリップチップ実装向けNon-Conductive Filmの最適設計で信頼性の向上が達成できる
川本 里美 氏/ナミックス |
31. |
層間絶縁材料のロードマップ -最新材料の紹介-
林 裕也 氏/積水化学工業 |
32. |
次世代パワーデバイス対応200℃耐熱実装材料技術
中村 太一 氏/パナソニック |
33. |
次世代半導体パッケージ用材料システムの開発
福住 志津 氏/日立化成工業 |