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開催日時: |
平成24年7月23日(月) 13:30~16:40 |
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会 場: |
エレクトロニクス実装学会 会議室(回路会館地下1階)
(167-0042)東京都杉並区西荻北3-12-2 TEL:03-5310-2010
地図 http://www.e-jisso.jp/intro/intro07.html |
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テーマ: |
「次世代インターポーザ技術の動向と課題」 |
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プログラム: |
13:00~ |
受付開始 |
◆技術講演◆ |
13:30~14:10 |
「進化するビルドアップ配線技術」
小林 馨氏(京セラSLCテクノロジー) |
14:10~14:50 |
「薄膜受動素子内蔵再配線とTSV付きSi-Interposerと2.5D実装動向」 福岡 義孝氏(ウェイスティ-) |
15:00~15:40 |
「ガラス上のめっき・ダイレクトパターン微配線形成技術」 コルドニエ クリス氏(関東学院大学材料・表面工学研究所) |
◆特別講演◆ |
15:40~16:40 |
「ガラスインターポーザの市場及び技術動向と課題」 宇都宮 久修氏(インターコネクション・テクノロジーズ) |
16:50~17:50 |
技術交流会 |
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定 員: |
100名(先着申込順) |
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公開研究会参加費: |
(テキスト代、消費税込み)
「クーポンの利用不可」
会員:5000円,非会員:10000円,
シニア会員(60才以上の会員)&学生:1000円
※参加費は当日、会場受付にて徴収します(釣り銭のないようにお願いします)。
※技術交流会参加費:無料(16:50~17:50) |
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申込先: |
マイクロ・ナノファブリケーション研究会
※次のURLよりお申し込みください。
http://homepage2.nifty.com/jisso-news/reg/micronanofab16.htm
※ウェブからの申し込みが出来ない方は、以下の参加申込書により
E-mail(micronanofab@kix.ne.jp)またはFAX(0495-21-7830)にてお申し込み下さい。 |
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以下の参加申込書をご使用ください |
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FAX宛先:0495-21-7830
アールアイ・コーポレーション (研究会事務代行)
メール宛先:micronanofab@kix.ne.jp
マイクロ・ナノファブリケーション研究会
公開研究会
「次世代インターポーザ技術の動向と課題」
参加申込書
平成24年7月23日(月) 13:30~16:40
参加内容(該当内容に○印を付けて下さい)
( )公開研究会 ( )技術交流会
会員区分
( )会員
( )会員(60才以上)
( )非会員
( )学生
氏 名
社 名
所属部署
連 絡 先
郵便番号
住 所
TEL
FAX
E-mail
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