開催日時 |
平成26年10月3日(金) 13:30~17:20 |
会場 |
回路会館 地下1階会議室
(167-0042)東京都杉並区西荻北3-12-2 TEL:03-5310-2010
(地図 http://www.e-jisso.jp/intro/intro07.html) |
テーマ |
「スマホ・タブレットの半導体パッケージ用材料・プロセスの最新技術動向」 |
プログラム |
- 13:00~
- 受付開始
◆基調講演◆
- 13:30~14:30
- 「実装技術の最新動向:2.1D集積から3D集積」
宇都宮 久修氏(インターコネクション・テクノロジーズ)
◆一般講演◆
- 14:30~15:10
- 「2.1Dインターポーザに向けた有機基板開発の現状」
高根沢 伸氏(日立化成)
- 15:20~16:00
- 「半導体パッケージ用高性能ビルドアップ絶縁材料」
柴山 晃一氏(積水化学工業)
- 16:00~16:40
- 「次世代パッケージ基板用デスミア・無電解銅めっきプロセス」
山崎 宣弘氏(JCU)
- 16:40~17:20
- 「LS=5/5μmを目指した微細回路形成用表面処理技術」
川島 敏氏(メルテックス)
- 17:30~18:30
- 技術交流会
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定員 |
100名(先着申込順) |
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公開研究会参加費 |
(テキスト代、消費税込み) 「クーポンの利用不可」
会員:5000円 非会員:10000円 シニア会員(60才以上の会員)&学生:1000円
名誉会員:無料
* 参加費は当日、会場受付にて徴収します(釣り銭のないようにお願いします)。 |
技術交流会参加費 |
無料(17:30~18:30) |
申込先 |
マイクロ・ナノファブリケーション研究会
* 次のURLよりお申し込みください。
http://e-jisso.com/reg/micronanofab23.html
* ウェブからの申し込みが出来ない方は、以下の参加申込書により
E-mail(micronanofab@kix.ne.jp )またはFAX(0495-21-7830)にてお申し込み下さい。 |