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研究会の紹介/研究会名と活動概要/光回路実装技術研究会/

光回路実装技術研究会　 第31回ＯＰＴ公開研究会 *光回路実装技術最前線シリーズ*　 参加者募集 趣旨 　マルチメディア時代と呼ばれる現代、光エレクトロニクス産業の市場は拡大の一途を辿っています。一方、これら産業技術の根幹を握る光エレクトロニクス関連の実装技術は、電気実装技術に比べ、小型化、高密度化、量産化、低価格化全般において手探りの状態が続いており、飛躍的な革新が求められております。 　このような光実装技術の抱える諸問題を体系的に調査し研究してゆくことを狙いとして、光回路実装技術研究会ではOPT(Optical PackagingTechnology)公開研究会を開催しています。 　本研究会では、光実装技術の探究は多くの技術的側面からの考察が不可欠であるとの認識から、光回路、光実装の諸技術を紹介するばかりでなく、産業界を府敵し社会的なニーズと技術的な展望を見極めつつ、光関連の基盤技術、周辺技術の側面からも調査検討を行い、また異業種技術の英知に触れることにより、新しい知恵と見識を得ることを主眼といたしました。 　光関連の専門技術の研究者・技術者のみならず、光に携わる電気、機械等他分野の研究者・技術者の方々の多くのお力添えを得たいと思っております。 　今回は、ポリマ導波路に関する最新技術を報告して頂くと共に、標準化が進展しつつあるMM導波路の測定方法や、光デバイス実装に欠かせない光学接着剤・樹脂についても、詳しく、分かりやすく講演して頂く予定です。是非、この新しい光実装技術の動向を把握するためにも、この研究会へご参加ください。 日　時： 平成19年6月7日（木14：00～17：30 場　所： エレクトロニクス実装学会　会議室 〒167-0042　杉並区西荻北3-12-2 TEL 03-5310-2010   会　費： 会員3,000円，非会員5,000円（消費税込み）   定　員： 100名(先着順)   主　催： 光回路実装技術研究会 (エレクトロニクス実装学会 光回路実装技術委員会)  プログラム：（特集「光学ポリマの新展開 」）    14:00－14:40  JPCA2007報告：光電子回路標準化および普及促進SWG NTT-AT／高原　秀行氏 14:40－15:20  57thECTCに見る光回路実装の研究開発動向 日本オプネクスト／宍倉　正人氏 15:30－16:10 マスク転写による自己形成光デバイス接続法 東海大学／久保宏行氏、三上修氏 16:10－16:50 ポリマ光導波路を用いたG-PON/GE-PON光トランシーバ NEC　ナノエレクトロニクス研究所／杉本　宝氏 16:50－17:30 自由討論 （パネルを用いた自由討論・情報交換） ※プログラムは変更になることがあります。ご了承ください。 申込方法： 申込者(申込者数)確認のため、下記の内容をＥメール(下記)でお送り ください。 なお、参加券等の発行はしておりません。 定員(１００名)を超え、参加をお断りするときは連絡を差し上げます。 お申込みせずに当日おいでいただいても、定員に達している場合は入場できません。必ず事前にお申込みください。 <申込必要事項> 　1. 氏名 　2. 会員/非会員 　3. 所属(会社/学校) 　4. TEL 　5. Email 申込先： 冨澤　かおり（日本電気株式会社） E-mail:k-tomizawa@zj.jp.nec.com  参加費の支払方法： 参加費は当日払いです。つり銭のないようにご準備ください。